經(jīng)過了一晚上的休息，隔天一早，林天就迫不及待地親自前往龍芯國(guó)際操刀光掩膜版的生產(chǎn)制作。

    陳星與曲程沒有急著離開魔都，而是共同前去觀摩。

    他們都想看看，林天到底是不是那么全能。

    龍芯國(guó)際實(shí)驗(yàn)室內(nèi)，已經(jīng)聚集了大批抱著學(xué)習(xí)態(tài)度，前來觀看的光刻工程師。

    面對(duì)數(shù)十位光刻工程師組成的圍觀學(xué)習(xí)人群，林天也沒有半點(diǎn)怯場(chǎng)，眼神平靜且專注，與前一天吊兒郎當(dāng)?shù)臉幼优腥魞扇耍p車熟路地開始了光掩膜版的初步制作。

    光掩膜版的制作流程與芯片生產(chǎn)同理，同樣要經(jīng)過圖形制作與轉(zhuǎn)換、曝光、顯影、蝕刻、脫模、清洗、缺陷檢查、缺陷修補(bǔ)、出貨清洗、貼膜十個(gè)主要步驟，但又與芯片生產(chǎn)不同。

    芯片生產(chǎn)，光刻機(jī)曝光，而光掩膜版可不能依靠光刻機(jī)曝光，而是需要用到激光/電子束直寫方式對(duì)Blankmask（光掩膜版材料）進(jìn)行曝光。

    當(dāng)正性光刻膠被曝光后，化學(xué)結(jié)構(gòu)發(fā)生變化，產(chǎn)生光酸，通過顯影液作用，被曝光的部分光刻膠溶解，而負(fù)性光刻膠被曝光部分結(jié)構(gòu)交聯(lián)，生成不易溶穩(wěn)定化學(xué)結(jié)構(gòu)，再通過顯影液作用，曝光部分得以保留。

    正所謂！

    行家一出手，便知有沒有！

    林天前面步驟完全正確，沒有半點(diǎn)外行的影子，而且過程行云流水，絲毫沒有半點(diǎn)拖沓，像是一位經(jīng)歷過上萬次光掩膜版制作的老手，一切都水到渠成。

    這也讓高永明、唐鑫宇，以及一眾圍觀的光刻工程師們打心底佩服，懂光刻機(jī)，懂掩膜版，這簡(jiǎn)直就是全能天才啊！

    在等待第一次流片的蝕刻空隙，龍芯國(guó)際的副首席工程師唐鑫宇搓了搓手，再也忍不住請(qǐng)教了：“打擾一下林工，駐波效應(yīng)你有什么好辦法解決嗎？”

    駐波效應(yīng)，在光刻過程中，會(huì)有一部分光被反射回來，這個(gè)反射的光和原來的入射光頻率相同，會(huì)相互干涉，導(dǎo)致光阻層中光強(qiáng)度的分布不均，呈現(xiàn)出交替的亮暗區(qū)域，導(dǎo)致流片失敗。

    如何有效削減駐波效應(yīng)，一直是他們頭疼的問題。

    林天移開鎖定在設(shè)備上的目光，淡淡說道：“使用TARC，BARC等抗反射層材料，或者進(jìn)行加熱烘烤，用高溫促進(jìn)光敏劑的擴(kuò)散，一定程度上彌補(bǔ)了光強(qiáng)分布不均的問題，在顯影過程中可以得到更均勻的圖案剖面?！?br/>
    聲音不大，卻傳遍實(shí)驗(yàn)室。

    龍芯國(guó)際的工程師沒有遲疑，立馬掏出記事本記錄。

    別看這位“林工”年輕，他在光刻領(lǐng)域的成就與造詣，早已經(jīng)遠(yuǎn)超在場(chǎng)所有人。